鐵氧體片的工藝是怎樣的？
根據鐵氧體片結晶構造和形態，制備工藝大致分為：多晶鐵氧體生產工藝；鐵氧體化學工藝；單晶鐵氧體制造工藝及其他特種工藝，如鐵氧體多晶薄膜和非晶鐵氧體等。
多晶鐵氧體生產工藝
類似陶瓷工業中常用的燒結過程，包括如下步驟：經固相反應形成鐵氧體的金屬氧化物或碳酸鹽或其他化合物，在混合均勻之后，經球磨、干燥，壓成特定的形狀。在大約1000°C的溫度下進行預燒后，再一次充分研磨和混合。加入適量的粘合劑，壓成所要求的形狀或者作為塑性物質擠壓成管狀、棒狀或條狀。然后在1200～1400°C溫度下燒結，準確的溫度取決于所需的鐵氧體特性。在最后的燒結過程中，爐膛中的環境條件起有重要的作用。
鐵氧體化學工藝
亦稱濕法工藝，有時還稱為化學共沉淀法。專門制備較高性能鐵氧體的工藝方法，又可分成中和法和氧化法。其過程是：先將制備鐵氧體時所需的金屬元素，配制成一定濃度的離子溶液，然后根據配方取適量溶液進行混合，通過中和或氧化等化學反應生成鐵氧體粉末，其后工藝過程與前面介紹的相同。
單晶鐵氧體片制造工藝
與非金屬單晶生長大致相同。Mn-Zn和Ni-Zn系鐵氧體單晶生長一般是采用布里茲曼法，即把多晶鐵氧體放入鉑坩堝里熔融后，在適當的溫度梯度電爐中使坩堝下降，從坩堝底部慢慢固化生成單晶。為了使熔融狀態下形成的氧分壓達到平衡，晶體生長時在爐膛內需要加幾個乃至100個MPa的氧分壓。
鐵氧體多晶薄膜的制備
如垂直磁化的鋇鐵氧體薄膜，采用新型的對向靶濺射裝置進行濺射。制備石榴石單晶薄膜，多采用在單晶基板上進行氣相或液相外延法，其具體工藝過程同半導體單晶薄膜的外延方法極為相近。
非晶鐵氧體的制備
當前是采用超急冷方法和濺射法，所謂超急冷法即把鐵氧體原料和適量的類金屬元素混合后，在高溫熔融狀態下，驟然施行大溫度梯度的超急冷卻的方法。這方面的研究工作剛剛開始，制品的性能還不甚理想。
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